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本文利用射频磁控溅射的方法,以纯度为99.99%的聚四氟乙烯(PTFE)为靶材,在再生纤维素基底上沉积氟碳膜,对不同的溅射工艺条件如靶基距、溅射功率和溅射压力进行了研究和探索。利用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察了氟碳膜的表面形貌,并估算了氟碳膜的沉积速率。从SEM照片上可以看出:随着靶基距、溅射功率和溅射压力的增加,沉积在再生纤维素基底上的氟碳粒子逐渐变小、变密,形状从不规则变成较为规则的近圆形,粒子间的孔隙逐渐变小,覆盖度增加。AFM的测试结果表明:沉积膜是一种垂直于基底表