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二硫化钼(MoS2)作为一种新型的二维层状半导体材料,因其独特的分子结构、可观的禁带宽度等优良特性,已经成为了国内外材料相关领域的研究热点之一。基于MoS2光明的研究前途,我们借助Materials Studio软件对本征态二硫化钼、空位缺陷体系、稀土元素掺杂、声子谱等多个研究方向进行了系统的计算研究,所取得的研究成果如下:1.对6×6×1的MoS2单层超胞进行了优化计算,能带结构计算结果呈现出直接带隙特点,禁带宽度为1.726eV,略小于相应的实验结果。光学吸收谱计算显示单层MoS2从可见光区域至