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（Ti）/Ni/Ti纳米薄膜的制备、微结构和磁特性研究

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【摘要】

：

磁性薄膜的研究,是磁学领域的研究热点。其研究成果不仅可以直接应用于磁记录、传感器等领域,同时又可以丰富和完善微磁学理论。本论文应用对靶磁控溅射法制备了一系列(Ti)/Ni/Ti纳米薄膜,并利用XRD、SPM和VSM对材料的磁特性和微结构进行了研究。所得结果如下:1.用对靶磁控溅射法制备了Ni(30nm)/Ti(t=1,2,3,4,5nm)系列样品,发现沉积态Ni/Ti薄膜呈面心立方(FCC)结构;

【作者】

：

【机构】

：

河北师范大学

【发表日期】

：

2007年04期

【关键词】

：

磁记录纳米颗粒膜磁控溅射矫顽力交换相互作用

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磁性薄膜的研究,是磁学领域的研究热点。其研究成果不仅可以直接应用于磁记录、传感器等领域,同时又可以丰富和完善微磁学理论。本论文应用对靶磁控溅射法制备了一系列(Ti)/Ni/Ti纳米薄膜,并利用XRD、SPM和VSM对材料的磁特性和微结构进行了研究。所得结果如下:1.用对靶磁控溅射法制备了Ni(30nm)/Ti(t=1,2,3,4,5nm)系列样品,发现沉积态Ni/Ti薄膜呈面心立方(FCC)结构;当Ti层厚度为3nm时,垂直矫顽力达到最大,平均粒径约19nm。2.用对靶磁控溅射法

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