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该论文介绍的两用型磁控是真空镀膜源设计的一个新的思路.它将磁控溅射技术和多弧技术结合一起,即采用一个靶,通过合理地设计磁场分布,同时选择不同的工作特性和电源,使一靶两用,既可达到磁控溅射膜层颗粒细的特点,又能保持多弧镀膜层耐磨性能高的优势.这样就可以一定的工作条件下,满足移相器器件对镀膜工艺性能的特殊要求.