【摘 要】
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该文系统地研究了非平衡磁控溅射金属等离子体基离子注入(MePBII)的基本物理过程.研究了非平衡磁控溅射技术中磁场的分布情况、产生金属等离子体的机理以及沉积、离规律;研究
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该文系统地研究了非平衡磁控溅射金属等离子体基离子注入(MePBII)的基本物理过程.研究了非平衡磁控溅射技术中磁场的分布情况、产生金属等离子体的机理以及沉积、离规律;研究了用大量平衡磁控溅射的方法产生金属等离子体,用射频激励增强金属粒子离化率,时行等离子体基离子注入的特点.并在此基础上进行了AgMgNi合金的金属等离子体基离子注入铝、铜和钼,研究了注入层成份深度分布特点、相组成和组织结构特征等.
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