增透型AZO薄膜的制备及应用

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【摘要】

：

在本文中,利用磁控溅射法,通过AZO及SiO_2双靶共溅射在石英玻璃表面制备AZO薄膜。在实验过程中通过功率调节,以膜厚为函数制备掺杂比例为1: 1、2: 1、4: 1(AZO膜厚:SiO2膜厚)的样品。同时,在沉积过程中改变沉积温度(25℃,100℃,300℃,500℃)。结果分析表明,4: 1掺杂500℃沉积样品的晶粒尺寸最大,尺寸约为36nm。最小电阻率也出现在500℃,4: 1掺杂的样品,

【作者】

：

徐礼

【机构】

：

上海师范大学

【发表日期】

：

2011年03期

【关键词】

：

AZO薄膜透明导电薄膜铝诱导晶化沉积温度退火温度

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