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等离子体增强化学气相沉积方法(PECVD)是制备薄膜材料的几种方法中技术最为成熟、操作较为简单的一种,并且可以制备均匀性高的大面积薄膜。但是采用PECVD方法沉积优质多晶硅薄膜仍必须弄清两个问题:一是薄膜的微结构表征;二是薄膜的输运性质。薄膜的微结构和输运性质决定电池的性能,因此制备优质薄膜是制作太阳能电池的关键。为解决这些问题,目前研究人员多致力于沉积条件的优化及一些辅助手段的采用。本文采用PECVD方法,系统研究了衬底温度、硅烷浓度对本征纳晶硅薄膜晶化率、平均晶粒尺寸的影