纳晶硅薄膜相关论文
低温制备非晶、纳晶硅和多晶硅薄膜对于光电器件集成和大面积微电子器件成本降低方面有重要意义。本论文工作的主要内容和结论如下......
等离子体增强化学气相沉积方法(PECVD)是制备薄膜材料的几种方法中技术最为成熟、操作较为简单的一种，并且可以制备均匀性高的大面......
本文利用PECVD制备纳晶硅薄膜,实验选用10%的SiHH4作为硅源,在普通玻璃衬底上沉积了硼掺杂硅薄膜.制备的工艺参数范围如下,沉积温......
采用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术,在玻璃衬底上低温沉积了优质本征纳晶硅（nc-Si：H）薄膜和掺磷纳晶硅（nc-Si（P）：H）薄膜。通过拉曼散......
