【摘 要】
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在总结多种非晶碳氢薄膜沉积方法的基础上,研究人员利用介质阻挡放电在大气压和低气压两种气压条件下成功地制备出含氢类金刚石(DLC)薄膜,并利用发射光谱、分子束质谱、朗谬
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在总结多种非晶碳氢薄膜沉积方法的基础上,研究人员利用介质阻挡放电在大气压和低气压两种气压条件下成功地制备出含氢类金刚石(DLC)薄膜,并利用发射光谱、分子束质谱、朗谬尔双探针等测试手段对薄膜沉积的介质阻挡放电等离子体及放电过程进行了诊断和分析,结合介质阻挡放电等离子体特性和薄膜性能的关系,对该种方法的薄膜沉积机理进行了探讨.该论文主要工作内容和成果如下:1、利用介质阻挡放电在大气压条件下制备出具有一定硬度的DLC薄膜.2、首次利用低气压CH<,4>介质阻挡放电在室温和几种基底上成功制备出性能良好的DLC薄膜.3、通过测定介质阻挡放电的Lissajous图形,发现当成膜速率变化范围为0.9-1.9A/s时,低气压下沉积φ40DLC薄膜的功耗仅在3-5W范围内.4、利用发射光谱和朗谬尔双探针技术对低气压CH<,4>介质阻挡放电等离子体的若干电子激发态物种及电子温度进行了诊断研究.5、利用分子束质谱对低气压CH<,4>介质阻挡放电等离子体中的离子物种种类和相对流强进行了检测.6、运用非晶共价网络结构理论,对a-C:H薄膜组成域进行了分析.
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