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本文以碳酸铈为铈源，以硅溶胶为硅源，通过喷雾干燥法制备出CeO2-SiO2复合抛光粉前驱体，再经过煅烧后得到CeO2-SiO2复合抛光粉。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、Zeta电位仪、激光粒度仪等测试手段，研究了不同掺硅量、焙烧温度、保温时间、掺氟量等因素对CeO2-SiO2复合抛光粉性能的影响。通过研究分析得出以下结论：由于CeO2和SiO2抛光粉之间的抛光协同作用，制备出的CeO2-SiO2复合抛光粉的抛光效果明显优于纯CeO2和纯SiO2抛光粉。当CeO2与SiO2的质量比大于2:1时，制备的复合抛光粉中的CeO2能完全包覆SiO2，表面形貌接近于球形。通过对制备出的复合抛光粉的粒度、抛蚀量、表面划痕情况综合考虑，得出当CeO2与SiO2的质量比接近于4:1时，粉体的粒径为0.985μm，用所制备的复合抛光粉对K9玻璃进行抛光试验，得出抛光粉的抛蚀量为0.2960g，表面划痕少，抛光效果达到最好。制备复合抛光粉时，当喷雾干燥时的空气流量为700L/h时，得到的抛光粉前驱体粒径最小。在不同的煅烧温度下焙烧抛光粉前驱体时，随着煅烧温度的升高，所制备出的复合抛光粉粒径先减小后增大，抛光粉的团聚也越来越严重，当煅烧温度为600℃时，所得抛光粉粒径最小，分散性较好。抛光粉前驱体在600℃煅烧后，随着保温时间的增加，所得复合抛光粉的粒径先减小后增大，抛光粉的分散性都较好，大多为球形单个颗粒，当保温时间为4h时，所得抛光粉粒径最小。用所制备的复合抛光粉对K9玻璃进行抛光试验，得出当空气流量为700L/h，煅烧温度为600℃，保温时间为4h时，制得的复合抛光粉的抛蚀量最高，为0.2738g，对玻璃进行抛光后玻璃的表面粗糙度（Sa）最低，在259μm257μm范围内Sa降为0.049μm。当向原料溶液中加入氢氟酸后，制备得到的复合抛光粉的抛光效果有明显提高，这是因为抛光粉中产生CeF3的缘故，CeF3属于三方晶系结构，具有尖锐的棱角有助于抛光，并且由于CeF3的产生，增加了抛光粉的硬度，细化了晶粒。当掺F量为8%时所得抛光粉的抛蚀量最大，增加到0.3074g，对玻璃抛光后玻璃的面粗糙度最低，在259μm257μm范围内Sa降为0.047μm。