由于集成电路布图设计产业的发展迅速，知识产权法律体系也相应设置了新的知识产权类型——集成电路布图设计专有权。目前，这种新型权利的保护体系尚存在诸多不足，而无论在理论上还是实务上，集成电路布图设计独创性的认定都是难题。布图设计的独创性包含两个方面:创作人原始创作的布图设计的独创性和通过反向工程而来的布图设计的独创性。由于我国集成电路布图设计授权采用登记制度，并不进行类似专利法上的实质性审查程序，因此，一个布图设计是否具有独创性大多只能在集成电路布图设计侵权司法实践中被讨论和评价。然而，迄今为止，国内外尚未形成一个完整而规范的独创性认定方法和规则。本文共有四章:“第一章集成电路布图设计的独创性认定现状”，本章通过比较各国集成电路布图设计的立法现状，提出独创性概念，然而因为该概念过于原则化，司法实践中对集成电路布图设计独创性的认定存在困难。“第二章集成电路布图设计独创性的内涵”，本章对集成电路布图设计独创性内涵进行分解，为独立完成和达到一定的创作高度。其中，独立完成的内涵通过布图设计的独创性与著作权作品的独创性相比可得出，而创作高度的内涵通过布图设计的创作高度与著作权作品及发明创造的创作高度相对比可得出。独创性的内涵确定后，方能进行独创性认定。“第三章司法实践中集成电路布图设计的独创性认定”，本章结合国内外相关典型案例，分析在司法实践中独创性认定的情形，针对司法实践中对于独创性认定的不足提出建议，并适当借鉴反向工程侵权抗辩认定的实践标准和理论标准，试图将这些标准带来的启示用于集成电路布图设计的独创性认定。“第四章对我国集成电路布图设计独创性认定的建议”，本章基于前三章对布图设计独创性内涵及可借鉴的认定方法和规则，参考、借鉴国外著作权作品独创性认定的理论，结合我国布图设计产业的技术发展现状和产业需求，对我国布图设计独创性认定，提出一套具有可操作性的方法。随着22/20纳米时代的到来，集成电路布图设计产业将面临前所未有的挑战，布图设计独创性认定也到了需要转换思路的重要时刻。我国作为世界上集成电路产品消耗量最大的国家，必须引起重视，做到未雨绸缪，尽早思考新时期集成电路布图设计独创性的认定方法和规则，才能真正为我国集成电路产业的健康、快速发展保驾护航。