随着工业的快速发展,能源缺乏和环境污染逐渐成为威胁人类可持续性发展的两大难题。自1972年日本科学家Fujishima发现TiO₂半导体可在光催化领域得到应用以来,光催化技术被认为是解决上述问题的关键。但是,研究表明,较大的禁带宽度导致其只能对紫外光有响应,不能满足人们对其直接利用可见光的需求。最近,人们发现一种新型非金属类石墨氮化碳（g-C₃N₄）材料能在可见光下光解水制氢以及降解有机污染物。但此块体材料存在比表面积低以及光生电子-空穴对复合率较高等不足,其应用得到了很大的限制。因此,制备具有高比表面积、强稳定性、优良的催化活性的g-C₃N₄材料是当前科学家研究的重点。利用热氧化剥离、超声剥离、化学剥离等方法剥离块体g-C₃N₄制备具有高比表面积、高光催化活性的g-C₃N₄纳米片已在国内外有相关报道。本学位论文以块体g-C₃N₄为研究对象,采用化学剥离的方法制备了稳定的胶体,同时利用静电自组装的方法得到了胶体基的复合光催化材料。另外,利用XRD,SEM,TEM,FTIR,UV-vis,PL,XPS等手段对材料进行结构表征和性质测定,并通过降解Rh B、MO、4-氨基苯甲酸（ABA）等有机染料对其可见光活性进行探讨。相关工作如下:1.以三聚氰胺为前驱体,通过高温煅烧的方法制备出了块体g-C₃N₄,借助浓硫酸为剥离试剂结合超声处理制备出了具有高稳定性、两性的氮化碳纳米片胶体。由于制备的胶体具有在酸性条件下表面带正电、碱性条件下表面带负电的特性,该材料可以作为基体构筑单元与客体利用静电自组装制备新型氮化碳复合材料。2.以制备好的块体g-C₃N₄为前驱体,首次利用碱剥离的方法成功获得了高稳定性、高产率的胶体材料。光催化性能相对于块体结构有了提高2.6倍。该制备方法简单,且能获得产率近100%的胶体,可为研究氮化碳胶体基不同形貌的复合材料提供一条有效的途径。3.采用静电自组装的方法,分别以[Cd（NH₃）₄]₂+和Bi OBr作为带正、负电的客体,以不同p H下氮化碳胶体为主体,制备出了Cd S/g-C₃N₄ NSs和Bi OBr/g-C₃N₄ NSs复合材料。研究表明,复合相的光催化性能相较于单一相都有了很大的提高,五次重复性考察后,光催化性能几乎没有降低。