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本文研究的Ni-Mn-In薄膜和Ni-Mn-In-Gd薄膜采用磁控溅射方法制备,薄膜厚度采用台阶仪测定、表面形貌采用原子力显微观察并分析表面粗糙和表面平均颗粒尺寸变化规律,采用扫描电镜观察薄膜表面微观组织结构、采用XRD分析晶体结构,采用振动样品磁强计测试退火后薄膜磁性能。研究了制备工艺参数对Ni-Mn-In和Ni-Mn-In-Gd合金薄膜表面形貌和溅射薄膜中镍、锰、铟、钆原子的沉积情况。研究了不同温度退火处理对薄膜微观组织结构和磁性能的影响,分析了稀土元素钆的掺杂对薄膜组织结构和磁性能影响。沉积态