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随着垂直磁记录材料、GMR磁头技术和无线数据传输技术的不断发展,迫切需要提高软磁薄膜的使用频率。在饱和磁化强度无法继续提高的背景下,面内单轴各向异性的调控在软磁薄膜的制备过程中变得十分重要。本文中,利用射频磁控溅射和微磁学模拟OOMMF程序等工具,在实验和模拟两方面研究了调控软磁薄膜面内单轴各向异性的方法。得到的主要结果如下：1、通过改变溅射气体Ar的流量和倾斜溅射偏角,系统研究了溅射条件对CoNb软磁薄膜的面内单轴各向异性和软磁性能的影响。结果表明：随着Ar流量的增加,CoNb薄膜的面