随着医药、生物、航空、军事等领域的技术革新和发展，人们越来越需要用一个微小器件就能执行许多功能，尤其是半导体技术的发展对微纳加工技术提出了更高的要求。本文研究新型微细电化学加工技术（主要是约束刻蚀剂层技术和基于琼脂糖凝胶模版湿印章技术）的原理，探讨应用新型电化学刻蚀技术对提高刻蚀加工的定域性和刻蚀精度的影响，设计了新型的纳秒级电化学脉冲电源和高精度的数据采集卡。首先分析了新型电化学刻蚀技术的电化学刻蚀原理并且建立其理论模型，从理论上证明了新型电化学刻蚀技术对提高电化学刻刻蚀精度的有效性，并分析了纳秒级脉冲应用于新型电化学刻蚀技术对提高刻蚀的定域性和刻蚀精度的影响。其次，基于传统的单MOSFET开关管的脉冲电源设计方案，提出了双MOSFET开关管的改进型脉冲电源设计，有效地减小了维持电压，从而提改善了脉冲电源的输出信号质量，提高了电化学刻蚀的精度和质量。然后，设计了基于PCI总线的高精度数据采集卡，该数据采集卡采用PCI总线能够有效地提高数据采集卡的数据实时处理能力，应用了24位的ADC芯片ADS1256和20位DAC芯片的AD5791从硬件上满足了数据采集卡的高精度要求，很好地满足了新型电化学微纳加工仪器对于精度的要求。最后，在新型电化学微纳加工仪器上应用新型电化学刻蚀技术进行刻蚀加工实验，主要是应用CELT技术对GaAs进行电化学刻蚀实验以及应用基于琼脂糖凝胶模版湿印章技术对铝和GaAs进行电化学刻蚀，通过对实验结果的分析，证明了约束刻蚀剂层技术和基于琼脂糖凝胶模版湿印章技术能够提高电化学刻蚀定域性和刻蚀精度，而且这两种新型电化学刻蚀技术具有相对较高的刻蚀速率。