磁控溅射制备TiAlN和TiAlSiN薄膜及其性能研究

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随着现代刀具行业的发展需求,单一的二元涂层TiN己不能满足行业需求,刀具表面处理需向多元、复合涂层方向发展,TiAlN、TiAlSiN多元薄膜具有更好的硬度、更好的抗氧化性、更强的耐磨性能,因而具有更好的研究及实用价值。  本论文采用磁控溅射技术,在不锈钢、硬质合金基底上,利用不同Al含量的Ti-Al合金靶和Ti-Al-Si烧结靶,通过改变N2分压、温度、溅射功率制备多组TiAlN、TiAlSiN薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM),能谱分析仪(EDS)及X射线衍射仪(XRD)对薄膜的相组成、微观形貌及成分进行了表征;利用显微硬度计、激光共聚焦、涂层自动划痕仪对薄膜硬度、三维形貌及结合力进行了表征;分析了N2分压、溅射温度及功率对相结构、微观表面形貌及力学性能的影响规律,研究表明:  (1)Al原子的引入能显著提高薄膜的硬度,在三个比例的靶材中,Ti、Al原子比为50∶50和70∶30时,薄膜最高硬度相近达3700HV,原子比为80∶20时硬度下降为2900HV,显著高于TiN薄膜硬度。加入Si原子后,TiAlSIN薄膜硬度增加到4300HV,并且引起XRD衍射峰的偏移和宽化。  (2)最佳工艺参数下,TiAlN薄膜的抗氧化温度达800℃,TiAlSiN薄膜抗氧化温度可达900℃。说明Al、Si原子的引入能显著提高薄膜的抗氧化性能。  (3)基底为不锈钢时,TiAlN薄膜最大硬度时的结合力为25N,基底为硬质合金时,TiAlN薄膜结合达80N,TiAlSiN薄膜结合力为69N。  (4)当靶材原子比为70∶30,N2分压为0.08Pa、溅射功率为400W,溅射温度为300℃时,TiAlN薄膜耐蚀性最好。  (5)通过对TiAlSiN薄膜XRD分析表明,Si原子的加入并没有产生新的相,但是起到宽化峰及使峰移动的作用。  (6)当靶材中Al含量为50%时,薄膜具有最低摩擦系数,为0.45。TiAlSiN薄膜的摩擦系数低于TiAlN薄膜,为0.35。
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