【摘 要】
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随着信息技术的飞速发展，集铁电性与铁磁性于一体的单相多铁材料受到人们的广泛关注，其在多态存储元件、自旋电子器件、存储介质、换能器、传感器和多功能设备等方面有重要的潜在应用。本文利用射频磁控溅射的方法，在Si(111)和Si(100)基片上制备了不同浓度、不同退火气氛的Fe、Co、Mn掺杂LiNbO_3薄膜，研究了不同掺杂元素、掺杂浓度、溅射气氛的氧氩比和退火气氛对薄膜铁电性和铁磁性的影响。利用X射
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随着信息技术的飞速发展，集铁电性与铁磁性于一体的单相多铁材料受到人们的广泛关注，其在多态存储元件、自旋电子器件、存储介质、换能器、传感器和多功能设备等方面有重要的潜在应用。本文利用射频磁控溅射的方法，在Si(111)和Si(100)基片上制备了不同浓度、不同退火气氛的Fe、Co、Mn掺杂LiNbO_3薄膜，研究了不同掺杂元素、掺杂浓度、溅射气氛的氧氩比和退火气氛对薄膜铁电性和铁磁性的影响。利用X射线能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)和X射线吸收精细结构(XAFS)
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