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目的:早期龋是正畸治疗中常见的并发症之一,尤其好发于一些依从性较差或者龋易感性较高的患者。牙釉质的主要成分是磷灰石样结构,而无定形磷酸钙(amorphous phosphate calcium,ACP)是磷灰石形成的中间结构,其可以通过释放钙磷离子来抑制牙釉质脱矿和促进再矿化。本实验通过合成大孔中空介孔硅(large pore hollow mesoporous silica,LP-HMS),对其表面进行氨基功能化改性,得到表面氨基改性后的大孔中空介孔硅(amine functionalization large pore hollow mesoporous silica,AF-LP-HMS),使其负载无定形磷酸钙,并在体外探究其在不同p H值下的释放行为和对脱矿牙釉质的再矿化效果。方法:本实验通过自模板技术合成中空介孔硅(hollow mesoporous silica,HMS),利用扩孔剂1,3,5-三甲苯(1,3,5-trimethylbenzene,TMB)对其进行扩孔,得到大孔中空介孔硅。通过接枝法,利用3-氨丙基三乙氧基硅烷(3-aminopropytriethoxylsilane,APTES)对大孔介孔硅表面进行氨基功能化改性。聚丙烯酸稳定的无定形磷酸钙(Polyacrylic acid-stabilized amorphous calcium phosphate,PAA-ACP)通过饱和溶液法制备。并通过静电引力负载PAA-ACP,即PAA-ACP@AF-LP-HMS,并在离体模型中探究其在不同p H值下(p H值分别为4.0,5.5,7.0)的释放行为和对脱矿牙釉质的再矿化效果。结果:本实验通过使用扩孔剂TMB能有效扩大中空介孔硅的孔径,获得大孔介孔硅材料,并通过接枝法,成功对介孔硅表面进行氨基功能化改性,得到表面呈正电荷的介孔硅,有利于后期负载呈负电荷的PAA-ACP复合物。通过电感耦合等离子体原子发射光谱法(inductively coupled plasma-atomic emission spectroscopy,ICP-AES)检测,我们得出PAA-ACP@AF-LP-HMS在不同p H值下的释放量有所差异,即当p H值越低时,钙磷离子的释放量越高,且通过扫描电镜及显微硬度测试证明PAA-ACP@AF-LP-HMS材料在体外可以有效促进脱矿牙釉质的再矿化。结论:离体脱矿模型实验中,PAA-ACP@AF-LP-HMS材料可以通过释放钙磷离子有效促进脱矿牙釉质的再矿化,且其对外部p H值敏感,周围环境的p H值降低会促进钙磷离子的释放。这为临床固定正畸中防治釉质脱矿提供新的方法和思路,且可以推测其在牙科材料应用中有着良好的发展前景。