综合孔径微波辐射计误差及校正仿真分析

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空间分辨率是衡量辐射计性能的关键指标之一。综合孔径通过采用稀疏小口径天线阵列最大可获得两倍阵列尺寸的合成孔径,因而能有效改善辐射计的空间分辨率。然而综合孔径技术会极大的增加辐射计系统的复杂度,复杂度的增加会引入多种误差,进而影响辐射计系统的成像性能。因此,为了获取高质量的亮温反演图像,非常有必要对误差进行分析及校正。  本文先简要概述综合孔径辐射计成像原理及其误差模型,理论分析各种误差对可见度函数的影响。  为了仿真分析各种误差对反演亮温的影响,本文精心设计了一套误差仿真分析平台。通过该平台可以对70个阵元的综合孔径微波辐射计系统引入不同分布类型及不同大小的误差进行仿真分析。通过仿真可以得到系统理想情况下及系统引入单项误差时视场范围内所有像素点反演亮温均方根差与误差的关系曲线。仿真结果可靠,具备一定的参考价值,从而验证了该仿真平台的正确性。  误差分析是误差校正的前提,误差校正是获取高质量反演图像的基础。文中验证了平坦目标变换算法在天线方向图幅度误差校正方面的可行性。并通过五单元综合孔径微波辐射计地面样机,实验验证了单外部辅助源校正算法对信号源场景和噪声源场景校正的可实现性,取得了一系列有价值的研究成果。
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