20世纪末21世纪初,纳米技术的迅猛发展将对社会各行业的科技进步及人类生活产生深远影响,预计将带来第五次技术革命。在这样的大背景下,半导体制造行业又向着传统光学光刻极限的方向发展,急需一种新型的高分辨率、高效率和低成本的光刻技术取而代之。纳米压印光刻技术作为下一代光刻技术中的热门研究方法之一,就受到了人们的极大重视。另外,光栅作为一种光学器件,具有十分广泛的应用,特别是在光谱学中的应用,对于过去的20世纪人类知识的发展积累做出了举足轻重的贡献。然而,受制于微细加工技术能力,近年来高密度大面积衍射光栅的研制水平和应用水平一直受到极大限制。得益于纳米压印光刻技术的提出,我们将有能力制造高性价比、高分辨率、低成本、大面积的透射和反射光栅,具有重要意义。本文将通过纳米压印光刻技术研究制造大面积(10mm×10mm)高密度(5000线/mm)的透射和反射光栅。基于我们之前在SU-8光刻胶上压印的研究,我们打算开发一种利用纳米压印技术在紫外固化胶——SU-8上进行的新型简单的制造工艺来研制光栅。由于SU-8在可见光波段有98%的透过率,十分适合用来进行制作光学器件。并且SU-8也具有较低的粘滞系数,即有很好的流动性,也适合用来进行压印研究。本文详细研究了光栅模板(周期分别为1μm、500nm、300nm和200nm)的制造过程,通过优化干法刻蚀参数,制造出了具有平滑陡直侧壁和较好截面的模板,高宽比达到或超过了3:1;通过研究压印过程的工艺参数,优化了工艺条件,得到压印深度和温度、压力之间的关系图,并和理论模拟结果进行了比较分析;对制作的光栅进行了衍射和偏振性能的测试,发现衍射现象符合理论模拟的相位光栅的性能,其衍射强度会随光栅高度而周期性变化,而测得的金属光栅也具有极强的偏振性能,对于透射波的消光比达到了2100。