【摘 要】
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采用高功率脉冲磁控溅射技术制备TiN薄膜,通过基架自转与固定的调节方式,研究了离子轰击对所制备TiN薄膜结构和性能的影响。采用台阶仪测量薄膜的厚度,采用场发射扫描电镜、
【机 构】
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中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江省海洋材料与防护技术重点实验室中国科学院宁波材料技术与工程研究所,宁波大学材料科学与化学工程学院,
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采用高功率脉冲磁控溅射技术制备TiN薄膜,通过基架自转与固定的调节方式,研究了离子轰击对所制备TiN薄膜结构和性能的影响。采用台阶仪测量薄膜的厚度,采用场发射扫描电镜、扫描探针显微镜、X射线衍射仪测试薄膜的表面形貌特征以及组织结构,采用纳米压痕仪测试薄膜的硬度以及弹性模量,采用划痕仪测试膜基结合力,采用电化学工作站测量薄膜的耐腐蚀性能。实验结果表明,在基架固定时,由于薄膜受到持续的离子轰击作用,所制备的TiN薄膜具有更致密的结构,更光滑的表面,更好的结晶性,更优异的机械性能和更良好的耐腐蚀性能。
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