【摘 要】
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采用微波等离子体化学气相沉积方法（microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD）在高沉积气压（34.5kPa）下制备多晶金刚石,利用发射光谱（optical emission spectroscopy,OE
【机 构】
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武汉工程大学材料科学与工程学院、湖北省等离子体化学与新材料重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金项目（10875093）资助
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采用微波等离子体化学气相沉积方法（microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD）在高沉积气压（34.5kPa）下制备多晶金刚石,利用发射光谱（optical emission spectroscopy,OES）在线诊断了CH4/H2/O2等离子体内基团的谱线强度及其空间分布,并利用拉曼（Raman）光谱评价了不同O2体积分数下沉积出的金刚石膜质量,研究了金刚石膜质量的均匀性分布问题。结果表明：随着O2体积分数的增加,C2,CH及Hα基团的谱线强度均呈下降
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