【摘 要】
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尽管脉冲等离子体的产生和最初应用可以追溯到 5 0年代 ,其实质性的突破发展却是在三十年后。脉冲等离子体表面技术在近五年中开始在工业生产中得到大范围使用。今天 ,脉冲等
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尽管脉冲等离子体的产生和最初应用可以追溯到 5 0年代 ,其实质性的突破发展却是在三十年后。脉冲等离子体表面技术在近五年中开始在工业生产中得到大范围使用。今天 ,脉冲等离子体技术开始应用于PVD,PACVD以及表面的修正、预处理和清洗。脉冲磁控溅射在运用脉冲等离子体镀膜技
Although pulsed plasma generation and its initial application date back to the 1950s, its breakthrough in substantive breakthroughs was thirty years later. Pulsed plasma surface technology in the past five years began to be widely used in industrial production. Today, pulsed plasma technology is used in PVD, PACVD and surface modification, pretreatment and cleaning. Pulse magnetron sputtering using pulse plasma coating technology
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