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在Fan和Chen提出来的扩散界面场变量模型的基础上提出了一种耦合外部场的一种新的相场模型。通过该相场模型的模拟，结果表明：外场下二维晶粒生长的相场仿真与没有外场下的情况相比，整体来看晶粒的生长显然不再均匀；在不同外场强度下晶粒的演变规律基本相同，但晶粒数随着外场的变化而明显不同，这表明外场的强弱对形核率的影响比较明显；外场下二维晶粒的生长仍符合线性关系。