【摘 要】
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对90 nm PDSOI MOSFET的热阻进行了提取与研究.以H型栅MOSFET为研究对象,将源体二极管作为温度敏感器,通过测量源体结电流与器件温度的关系以及源体结电流与器件功率的关系,
【机 构】
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中国科学院大学,北京100049;中国科学院微电子研究所,北京100029;中国科学院硅器件技术重点实验室,北京100029;中国科学院微电子研究所,北京100029;中国科学院硅器件技术重点实验室,
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对90 nm PDSOI MOSFET的热阻进行了提取与研究.以H型栅MOSFET为研究对象,将源体二极管作为温度敏感器,通过测量源体结电流与器件温度的关系以及源体结电流与器件功率的关系,获得MOS器件功率与器件温度的关系,从而获取MOS器件热阻值.实验结果表明,该工艺下PMOS器件的热阻比NMOS器件大,其原因是PMOS体区掺杂浓度比NMOS高,而掺杂浓度越高,导热性越差,热阻就越大;H型栅器件的归一化热阻随沟道宽度的增加而增大,其原因是随着沟道宽度的增加,体引出区域对器件导热的贡献变小;热阻随环境温度的上升而减小,其原因是二氧化硅埋氧层的导热率随温度的升高而增大.
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