【摘 要】
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用直流-射频磁控溅射镀膜工艺,在不同的溅射功率条件下,制备了玻璃/SiC/DLC(diamond-like carbon)薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、共焦显微拉曼光谱仪(Raman)、场发射扫描电子
【机 构】
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武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,江苏秀强玻璃工艺股份有限公司
【基金项目】
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国家“十三五”重点研发计划子课题(2016YFB0303903-04)
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用直流-射频磁控溅射镀膜工艺,在不同的溅射功率条件下,制备了玻璃/SiC/DLC(diamond-like carbon)薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、共焦显微拉曼光谱仪(Raman)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、纳米显微硬度仪,研究了DLC薄膜的组织结构、物相组成、表面形貌、维氏硬度。结果表明,随着功率的增大,ID/IG值先增大后减小,薄膜硬度呈现先增大后减小的趋势;当溅射功率为200 W时,ID/IG值为0.56,镀膜玻璃的硬度值最大(830 HV),相比未镀膜的玻璃基片,硬度值增加了23.8
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