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随着生产技术的不断进步，为了提高抛光效果，出现了化学一机械抛光（Chemical—Mechanical Polishing，简称CMP）、电解一机械抛光、超声波一电解抛光、磁力一电解抛光等多种复合抛光技术。为适应现代工业对抛光技术进展的需要，对几种复合抛光方法的原理、特点以及应用范围进行了叙述和总结。