【摘 要】
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以MTS/H_2为前驱物,采用强制脉冲CVI(FP-CVI)方法,进行了在C纤维表面沉积SiC涂层的研究,并探讨了其工艺过程．结果表明,在1000～1100℃和(5～25)kPa,沉积得到的β-SiC具有明显的(11
【机 构】
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中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院上海硅酸盐研究所 上海 200050；中国科学院研
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以MTS/H_2为前驱物,采用强制脉冲CVI(FP-CVI)方法,进行了在C纤维表面沉积SiC涂层的研究,并探讨了其工艺过程．结果表明,在1000～1100℃和(5～25)kPa,沉积得到的β-SiC具有明显的(111)面取向,涂层均匀一致,厚度可控．在实验过程中,随着单次驻留时间和脉冲次数的增加,涂层厚度也随之增加,涂层厚度与脉冲次数成非线性关系．当脉冲次数为300时,C纤维表面沉积SiC层后其质量增加达到36．18％．
Using MTS / H_2 as precursors, forced pulsed CVI (FP-CVI) method was used to study the deposition of SiC coating on the surface of C fiber and its process was discussed. The results show that the deposited β-SiC has obvious (111) orientation at 1000-1100 ℃ and (5-25) kPa, the coating is uniform and the thickness is controlled. During the experiment, with the increase of single dwell time and pulse number, the coating thickness also increased, and the thickness of the coating became nonlinear with the pulse number. When the pulse number is 300, the mass increase of SiC layer on the surface of C fiber reaches 36.18%.
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