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以硫化镉（CdS）为主要原料,氯化镉（CdCl2）为助熔剂,采用干压成型、真空烧结的方式制备CdS陶瓷靶材.探讨了原料性质、烧结温度、CdCl2添加量对靶材相对密度、烧结线收缩率、显气孔率及表面电阻率的影响.用阿基米德法测定靶材密度、用四探针测试仪测试靶材表面电阻率、用XRD测试靶材晶相结构、用SEM 观察靶材微观形貌.实验结果表明,靶材试样的晶相主要为六方相CdS,晶粒均匀（晶粒大小在3-8μm 之间）,密度达到4.55g/cm^3,显气孔率4.59%,表面电阻率89.2Ω·cm,能满足磁控溅