【摘 要】
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观测了不同Mg含量的AlxGa1-xN/GaN超晶格(SLs)样品在不同退火温度和激发强度下的光致发光(PL)光谱。结合霍尔测量,分析了其紫外发射(UVL)峰的起源及相关影响因素。实验发现:同一样品
【机 构】
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北京大学物理学院人工微结构和介观物理国家重点实验室
【基金项目】
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基金项目:国家自然科学基金(60776042,60477011),国家高技术研究发展计划(2007AA032403),国家重点基础研究发展计划(2006CB921607)资助项目
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观测了不同Mg含量的AlxGa1-xN/GaN超晶格(SLs)样品在不同退火温度和激发强度下的光致发光(PL)光谱。结合霍尔测量,分析了其紫外发射(UVL)峰的起源及相关影响因素。实验发现:同一样品在N2气氛中高温退火,UVL峰强随退火温度的升高,先增至饱和继而急剧下降,峰位红移;而在相同退火条件下,随着掺杂Mg的流量增加,样品空穴浓度下降,峰强减弱,峰位红移。结果表明:UVL峰是来自于易热分解的浅施主(VNH)与浅受主(MgGa)之间的跃迁,并受到深施主(MgGaVN)与浅受主(MgGa)自补偿效应的影
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