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用改进的Ｎａａｒｍａｎｎ法在ｎ型ＳｎＯ２基片上直接聚合成聚乙炔膜，制成ｐ－（ＣＨ）ｘ／ｎ－ＳｎＯ２异质结，用氩离子激光器作光源，测量了光电流密度与入射光强度的关系曲线。在仅考虑聚乙炔吸收光的情况下，从理论上导出聚乙炔基异质结构的光电流密度公式，与实验结果相符合。
聚乙炔／SnO2异质结的光电流密度
【摘 要】
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用改进的Ｎａａｒｍａｎｎ法在ｎ型ＳｎＯ２基片上直接聚合成聚乙炔膜，制成ｐ－（ＣＨ）ｘ／ｎ－ＳｎＯ２异质结，用氩离子激光器作光源，测量了光电流密度与入射光强度的关系曲线。在仅考虑聚乙炔吸收光的情况下，从理论上导出聚乙炔基异质
【机 构】
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暨南大学物理系
【出 处】
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暨南大学学报(自然科学与医学版)
【发表日期】
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1997年1期
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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技