硅纳米线纳米电子器件及其制备技术

来源 :电子元件与材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：qiufeng115

【摘要】

：

硅纳米线由于特殊的光学及电学性能如量子限制效应及库仑阻塞效应等,在纳米电子器件的应用方面具有潜在的发展前景.介绍了采用电子束蚀刻技术(EB)、反应性离子蚀刻技术(RIE)

【作者】

：

裴立宅唐元洪陈扬文张勇郭池

【机构】

：

湖南大学材料科学与工程学院

【出处】

：

电子元件与材料

【发表日期】

：

2004年10期

【关键词】

：

电子技术硅纳米线综述纳米电子器件制备性能 electronic technology silicon nanowire review nanoelec

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硅纳米线由于特殊的光学及电学性能如量子限制效应及库仑阻塞效应等,在纳米电子器件的应用方面具有潜在的发展前景.介绍了采用电子束蚀刻技术(EB)、反应性离子蚀刻技术(RIE)、金属有机物化学气相沉积(MOCVD)等制备技术及场效应晶体管、单电子探测器及存储器、双方向电子泵及双重门电路等硅纳米线纳米电子器件的最新进展情况,并对其发展前景作了展望.

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