【摘 要】
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利用直流磁控溅射工艺,在水冷玻璃衬底上制备了透过率高、电阻率相对较低的钛铝共掺杂ZnO（TAZO）透明导电膜。用XRD和SEM等研究其结构、应力和光电性能与靶基距之间的关系。结果
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利用直流磁控溅射工艺,在水冷玻璃衬底上制备了透过率高、电阻率相对较低的钛铝共掺杂ZnO（TAZO）透明导电膜。用XRD和SEM等研究其结构、应力和光电性能与靶基距之间的关系。结果表明：TAZO薄膜为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。当靶基距为42mm时,薄膜样品晶格畸变最小,具有最小压应力（绝对值）0.270GPa,同时具有最小方块电阻4.21Ω/□;靶基距为48mm时,薄膜样品具有最小电阻率3.09×10–4Ω·cm。所有薄膜样品的可见光区平均透过率都超过了91%。
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