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金刚石薄膜异质外延的研究状况与展望
金刚石薄膜异质外延的研究状况与展望
来源 :材料导报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zzu123456789zzuliuli
【摘 要】
:
综述了化学气相沉积异质外延金刚石薄膜机理及工艺的研究现状,分析了存在的问题,并对今后的研究进行了展望.
【作 者】
:
王传新
汪建华
马志斌
满卫东
王升高
【机 构】
:
中国科学院等离子体物理研究所,中国科学院等离子体物理研究所
【出 处】
:
材料导报
【发表日期】
:
2002年10期
【关键词】
:
CVD
半导体
化学气相沉积
外延生长
金刚石薄膜
异质外延
diamond films
heteroepitaxy
CVD
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综述了化学气相沉积异质外延金刚石薄膜机理及工艺的研究现状,分析了存在的问题,并对今后的研究进行了展望.
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