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在普通碱液中添加一种特殊的添加剂，在不同时间下对单晶硅表面进行刻蚀．用扫描电子显微镜观察样品表面形貌，结果显示：单晶硅片放入加入添加剂2mL的刻蚀液中，经过10min刻蚀后晶体表面零星出现大小不一的金字塔，并有大面积的平滑区；刻蚀15rain后金字塔大小趋向一致，平滑区面积缩小；刻蚀20min硅片表面形成平均尺寸为2～4μm金字塔绒面结构，并且均匀性好、覆盖率高；刻蚀25min后，进入过腐蚀阶段，金字塔出现变大的现象．研究表明：与传统碱腐蚀相比，添加剂可以缩短单晶硅刻蚀时间，并获得较为理想的绒面结构，在工