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纵磁结构触头涡流的仿真分析
纵磁结构触头涡流的仿真分析
来源 :真空电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xujuenrong
【摘 要】
:
电弧熄灭后,真空触头间隙中的剩磁是由触头结构中各部分的涡流所产生的,其中主要是触头片中的涡流。本文利用有限元法对1/2匝和1/3匝纵磁结构触头在大开距下的涡流特性进行了仿真
【作 者】
:
修士新
张敏
【机 构】
:
西安交通大学电气工程学院
【出 处】
:
真空电子技术
【发表日期】
:
2007年5期
【关键词】
:
真空灭弧室
触头结构
涡流
Vacuum interrupter
Contact structure
Eddy current
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电弧熄灭后,真空触头间隙中的剩磁是由触头结构中各部分的涡流所产生的,其中主要是触头片中的涡流。本文利用有限元法对1/2匝和1/3匝纵磁结构触头在大开距下的涡流特性进行了仿真研究,对比分析了触头结构、开距以及触头片开槽方式等对涡流、纵向磁场滞后时间的影响。
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