EB-PVD工艺参数对沉积Ti-Al薄板的影响

来源 :哈尔滨工业大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yangglan2

【摘要】

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为了获得采用EB-PVD技术制备Ti-Al薄板的合理工艺参数,分析了Ti-Al薄板在实际试验条件下的蒸发与沉积过程.采用相关热学理论,结合分析试验的方法并依照EB-PVD工艺特点,对蒸气

【作者】

：

马李滕敏孙跃赫晓东

【机构】

：

哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所,台州学院物理与电子工程学院,哈尔滨空调股份有限公司

【出处】

：

哈尔滨工业大学学报

【发表日期】

：

2010年7期

【关键词】

：

电子束物理气相沉积平均自由程碰撞几率靶基距饱和蒸气压 EB-PVD mean free path probability of collision

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为了获得采用EB-PVD技术制备Ti-Al薄板的合理工艺参数,分析了Ti-Al薄板在实际试验条件下的蒸发与沉积过程.采用相关热学理论,结合分析试验的方法并依照EB-PVD工艺特点,对蒸气粒子的传输、饱和蒸气压对蒸发原子的影响以及Al的再蒸发进行了研究.结果表明：EB-PVD工艺制备Ti-Al薄板的最佳靶基距为280mm;饱和蒸气压的差异使得材料截面呈现分层特征;加入Nb片可以减小由于Ti、Al的蒸发速率差异导致的沉积材料与靶材之间的成分偏差,Al在基板上的2次蒸发可忽略不计.工艺参数的合理设计及在熔池中添

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