【摘 要】
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通过单因素实验研究了三乙醇胺(N(C2H4OH)3)对恒电位法合成氧化钴/聚苯胺复合膜的影响。采用电化学测试技术、扫描电镜、X射线衍射和加速腐蚀实验等方法对膜层的耐腐蚀性能进行分
【机 构】
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沈阳理工大学材料科学与工程学院,辽沈工业集团有限公司
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通过单因素实验研究了三乙醇胺(N(C2H4OH)3)对恒电位法合成氧化钴/聚苯胺复合膜的影响。采用电化学测试技术、扫描电镜、X射线衍射和加速腐蚀实验等方法对膜层的耐腐蚀性能进行分析。结果表明,恒电位法合成的氧化钴/聚苯胺复合膜中,氧化钴以晶体形式存在,三乙醇胺的加入使复合膜的微观形貌由不致密不规则的片状形貌,转变为均匀致密的片状形貌。三乙醇胺加入2 g/L时,复合膜的自腐蚀电流达到9.09×10-7A/cm2,自腐蚀电位达到-0.152 V,10%HCl点滴腐蚀时间达496 s,10%NaOH点
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