【摘 要】
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基于四光束激光干涉光刻技术,在薄膜表面实现了四光束激光直接干涉光刻制备微纳复眼结构,为激光干涉光刻研究提供了一个新的应用方向。对于多层复合薄膜,激光干涉光刻的效果
【机 构】
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长春理工大学国家纳米操纵与制造国际联合研究中心
【基金项目】
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国家重点基础研究发展计划“973”计划(2012CB326406);教育部博士学科点专项基金(2011221640002);大学生创新创业训练计划(2013S001)资助项目
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基于四光束激光干涉光刻技术,在薄膜表面实现了四光束激光直接干涉光刻制备微纳复眼结构,为激光干涉光刻研究提供了一个新的应用方向。对于多层复合薄膜,激光干涉光刻的效果与薄膜的透光率相关,即在一定范围内,透光率影响光刻结构的形成。在保持四光束激光干涉光刻系统波长和入射角度不变的条件下,通过改变能量得到不同尺寸的周期性孔阵结构,与复眼结构一致,发现透光率分别为5%、30%和75%的薄膜在20~30mJ曝光时均可形成清晰的周期复眼结构,且在25 mJ时最为明显。在700~1 200nm波段使用反射率测试系统对光刻前后透光率为5%、30%和75%的薄膜进行了反射率测试,测试结果表明经光刻后形成的结构反射率普遍降低,可以在薄膜表面实现减反特性。
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