干涉光刻相关论文
极紫外光刻技术作为下一代光刻技术,被行业赋予了拯救摩尔定律的使命。极紫外光刻胶是极紫外光刻技术的核心子技术之一,其分辨率、......
用干涉光刻制作新型显示元件劳仑斯·里弗莫尔国家实验室的研究人员正用光干涉光刻而不用掩模制作微孔或微点列阵。这种形成微......
考虑到实际入射光强的空间分布不均匀,基于Kretschmann模型并采用角谱方法分析模拟了两束高斯光干涉诱导表面等离子激元（SPP）驻波场......
基于严格的矢量耦合波方法，结合纳米级光栅实际制作工艺，定量分析了在13．4nm软X射线（TE偏振）正入射条件下，光栅材料、厚度、占空比、梯形......
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系......
利用紫外激光还原银离子并结合干涉光刻技术，实现了金属光子晶体的制备。以干涉光刻制备的光刻胶光栅为模板，将聚乙烯吡咯烷酮与......
利用光纤实现光的分束和传输，构建了柔性干涉光刻系统。引入半波片用于控制光的偏振方向。以三光束干涉光刻为对象，研究了改变光......
超透镜因易于小型化、集成化,具有替代传统透镜的广阔应用前景。而超透镜的制备严重依赖于电子束光刻方法,制备效率低且运行成本昂......
随着空间变参量微纳米结构在新型颜色显示、裸眼3D显示、超颖表面等领域的广泛应用,其快速制备方法也成为了研究热点。本文基于4F......
微纳光纤传感器将微纳加工与光纤传感技术有机结合,具有重大的科研意义和产业化潜力。然而现有的加工技术无法在光纤端面实现任意......
纳米科学技术将成为新世纪信息时代的核心 .纳米量级结构作为研究微观量子世界的重要基础之一 ,其制作技术是整个纳米技术的核心基......
低维半导体纳米材料能在三个维度上缩小器件的尺寸,并通过量子效应改善器件的光电特性,是今后半导体材料发展的主要趋势之一.......
微纳结构因其具有新颖的光学特性在纳米光电子领域得到了广泛应用。作为常用的微纳结构加工方法,传统激光干涉光刻技术由于受衍射......
近年来，基于局域表面等离子共振的特性与应用研究飞速发展，并且在许多研究领域表现出潜在应用前景。同时，局域表面等离子共振金属纳米......
本论文主要研究具有亚波长结构的金属薄膜在可见光波段的滤光及偏振特性。近年来,亚波长光学得到深入研究,表面有亚波长周期结构的......
光刻技术是大规模集成电路制造的关键技术之一，在微电子、微光学、光电子和微机械制造等领域具有广泛的应用。产生高分辨率的任意图......
金属光子晶体是周期排列的金属纳米孔、纳米柱以及纳米线的结构,其基于的物理机理是粒子等离子共振效应。本文研究的对象是波导耦......
极紫外光刻技术(EUVL,λ=13.4 nm)是为小于70 nm特征尺寸图形制作而开发的下一代光刻技术(NGL).在麦迪逊威斯康星大学开发的极紫外......
采用表面等离子激元近场增强技术可改善纳米干涉光刹成像质量，有效实现微纳米结构快速、高效、低成本制作，在传统微细加工技术较难发......
介绍了一种不用掩模的光刻技术--激光干涉光刻技术的基本原理,给出了干涉光刻技术的主要特点及一些可能的应用,并对实验系统和初步......
光子晶体是一种介电常数呈周期性变化的介质材料,它由介电常数不同的两种材料周期排列组成,因其周期性而产生了光子禁带,为了产生......
多束SPPs干涉光刻是一种可制作纳米尺度光子晶体器件的新型微加工方法，目前尚未见对多束SPPs干涉光刻过程进行模拟分析的专门软件．在......
The soft X-ray interference lithography(XIL) branch beamline at Shanghai Synchrotron Radiation Facility(SSRF) is briefly......
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利用高增益参量放大器研究相干态和真空态输入下的干涉光刻性能。研究发现：相干态输入将降低光刻曝光函数的分辨率,而输入相干态的......
多束SPPs干涉光刻是一种可突破衍射极限的新型纳米加工方法。在分析SPPs激励和传输机理基础上，建立多束SPPs干涉成像模型，编制了能快......
介绍了一种不用掩模的光刻技术-激光干涉光刻技术的基本原理，给出了干涉光刻技术的主要特点及一些可能的应用，并对实验系统和初步实......
极紫外光刻技术(EUVL,λ=13.4 nm)是为小于70 nm特征尺寸图形制作而开发的下一代光刻技术(NGL).在麦迪逊威斯康星大学开发的极紫外......
为了实时、便捷的改变光刻图案以用于微纳光子器件制备，使用数字微镜器件构建了一套无掩模亚微米尺度制备系统．基于阿贝成像原理分析......
利用激光干涉光刻和金纳米颗粒胶体溶液制备了宽度在100nm以下且总面积达到平方厘米量级的金纳米线光栅结构.制备过程中,首先在表......
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系......
双光束双曝光和四光束单曝光是无掩模激光干涉光刻的两种典型方法,都容易利用现有光刻工艺,在不需掩模和高精度光刻物镜的情况下,......
无掩模激光干涉光刻中的分束方法一般有波前分割和振幅分割.研究和比较了振幅分割无掩模激光干涉光刻方法和系统,包括振幅分割双光......
激光干涉光刻不受传统光学光刻系统光源和数值孔径的限制,其极限尺寸CD达到曝光波长的1/4,研究了波前分割双光束、三光束方法及四......
用多束相干光适当组合干涉曝光,得到的图形与基片在干涉场内的纵向位置z无关,与x、y位置呈周期关系,光的相干长度对应传统光学光刻......
利用双光束干涉,在光敏材料上制作光子晶体结构.通过改变两束光之间的夹角可以改变制备样品的周期.改变曝光次数以及两次曝光时干......
偏振成像提供了有别于强度(即明暗)、频率(即颜色)以外的另一维度的信息。偏振片是偏振成像的重要组件,能实现对特定偏振方向光的......
建立了多光束干涉光刻干涉场内光强分布的数学模型,仿真计算了双光束、三光束、四光束干涉曝光情况下,入射光束存在角度偏差以及各......
采用双光束干涉曝光法制作大尺寸全息光栅时,由于温度变化、空气流动、振动等因素的干扰,曝光条纹相对于光栅基板存在平移和周期变......
衍射光栅在光谱分析、精密计量、激光脉冲压缩等领域有着广泛的应用。制作全息光栅的传统方法是用两束准直后的相干光在空间形成干......
美国科学家在纳米制作技术领域获得重大进展，通过将干涉光刻和软光刻技术结合在一起，推出称为软干涉光刻技术（SIL）的新型制造技术，可以......
研究可见光波段亚波长防伪光栅的制做．给出了用2θ夹角一次光刻、2θ夹角摆动δ角两次光刻和2θ夹角旋转β角两次光刻等干涉光刻工......
分析了多光束空间分布产生的误差对图形的影响,通过计算优化得到三光束产生的干涉图形在整个面内有着更好的图形稳定性。利用氦镉......
光子晶体是一种介电常数呈周期性变化的介质材料,它由介电常数不同的两种材料周期排列组成,因其周期性而产生了光子禁带,为了产生......
