【摘 要】
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第十届国际化学气相沉积会议将于1987年10月18日至23日在美国夏威夷的火奴鲁鲁召开。这次国际学术会议是电化学学会第172次年会的一部分,由日本电化学学会和日本应用物理学
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第十届国际化学气相沉积会议将于1987年10月18日至23日在美国夏威夷的火奴鲁鲁召开。这次国际学术会议是电化学学会第172次年会的一部分,由日本电化学学会和日本应用物理学会共同筹办。会议的联合主席共五人,他们是美国的J·M·Blocher,G·W·Cullen,Werner Kern和P·Rai-Choadhury,日本的K·Sugawara(菅原)。
The Tenth International Conference on Chemical Vapor Deposition will be held in Honolulu, Hawaii, the United States from October 18 to October 23, 1987. This international conference is part of the 172th annual meeting of the Electrochemical Society and is jointly organized by Japan Electrochemical Society and Japan Society of Applied Physics. The meeting co-chairs a total of five people, including J.M. Blocher, G.W.Cullen, Werner Kern and P.Rai-Choadhury from the United States, and K. Sugawara from Japan.
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