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对硅的干法刻蚀技术是现代半导体工业中非常重要的一项工艺。本文介绍了如何将硅片干法刻蚀技术引入到设计性、研究性的普通物理实验教学中．以及在相关实验教学的设计、实验内容的编排和教学方式等方面的一些特点。
将硅片干法刻蚀技术引入设计性、研究性的普通物理实验
【摘 要】
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对硅的干法刻蚀技术是现代半导体工业中非常重要的一项工艺。本文介绍了如何将硅片干法刻蚀技术引入到设计性、研究性的普通物理实验教学中．以及在相关实验教学的设计、实验内
【机 构】
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南京邮电大学
【出 处】
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价值工程
【发表日期】
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2010年35期
【基金项目】
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江苏省高校自然科学基金（批准号09KJB510014）,南京邮电大学引进人才科研启动基金（批准号：NY208057）,南京邮电大学教学改革研究项目（批准号JG03309JX37）资助的课题.
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