切换导航
文档转换
企业服务
Action
Another action
Something else here
Separated link
One more separated link
vip购买
不 限
期刊论文
硕博论文
会议论文
报 纸
英文论文
全文
主题
作者
摘要
关键词
搜索
您的位置
首页
期刊论文
Pt/InP肖特基二极管气敏特性的研究
Pt/InP肖特基二极管气敏特性的研究
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhouyang340345
【摘 要】
:
本文研究了P/n-Inp肖特基二极管在氢,氧气氛下的I-V,C-V以及复阻抗谱特性,测试结果表明:在氢气氛下势垒高度降低,在氢气氛下势垒高度增加,对二者均有良好的敏感特性。
【作 者】
:
田敬民
【机 构】
:
西安理工大学微电子技术教研室
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
1996年7期
【关键词】
:
Pt/InP
肖特基二级管
气敏特性
Gases
Platinum
Semiconducting indium phosphide
Sensors
下载到本地 , 更方便阅读
下载此文
赞助VIP
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
本文研究了P/n-Inp肖特基二极管在氢,氧气氛下的I-V,C-V以及复阻抗谱特性,测试结果表明:在氢气氛下势垒高度降低,在氢气氛下势垒高度增加,对二者均有良好的敏感特性。
其他文献
圆柱单自由度和双自由度涡激振动特性研究
对圆柱绕流的涡激振动过程进行了数值模拟,研究了单、双自由度下涡激振动的力学特性、振幅特性、频谱特性,探讨了单、双自由度的适用条件.结果表明,单自由度条件下,随着约化
期刊
涡激振动
单自由度
双自由度
质量比
数值模拟
vortex-induced vibration(VIV)
one degree of freedom
two
30GHz PHEMT振荡器
介绍了一种30GHz单片压控振荡器的设计、制作和性能.该芯片采用PHEMT工艺制作,电路基于负阻匹配共源网络结构设计.根据PHEMT器件的小信号S参数和直流I-V参数,提取出该器件的M
期刊
VCO
PHEMT
MATRK模型
谐波平衡分析
七师奎屯河:文明创建铸就魅力
奎屯河—母亲河,她是用天山雪水哺育"金三角"地区的工业、农业、畜牧业的命脉,养育了两岸70余万各族人民群众。打造魅力奎河大片的林木环绕四周、仿古式大门耸立、一条笔直的花
期刊
水管所
视频监控
戈壁荒滩
奎屯河
GexSi1—x/Si(001)量子阱的电子结构及光跃迁
采用包络函数方法及Kronig-Penny模型计算了量子阱GexSi1-x/Si(001)的电子结构。对量子阱的光跃迁几率进行了估算,并讨论了量子阱参数的最佳选择。
期刊
量子阱
电子结构
光跃迁
硅
硅化锗
价值的守望——记援疆干部、一六二团副团长马占国二三事
2017年2月,作为辽宁省第五批援疆干部人才,抚顺高新区党工委副书记马占国来到九师一六二团。在团里,马占国曾分管招商引资、发展改革、政策研究和统计等工作。为贯彻师团党委
期刊
魏德友
雷锋精神
兵团精神
生物质发电产业
抚顺市
40位院士专家受邀加入中交集团高端科技智库
2020年12月12日,中国交通建设集团有限公司(简称"中交集团")高端科技智库成立大会暨专家委员会第一次会议在深圳召开。27位中国工程院院士,3位交通运输部原总工程师,22位特邀
期刊
中国工程院院士
科技智库
中交集团
中国交通建设
院士专家
交通运输部
总工程师
高端
形成硅多层微机械结构的“掩模—无掩模”腐蚀新技术
本文介绍了一种制作硅多怪微结构的体微机械加工新技术。基于KOH溶液的无掩模腐蚀特性,仅用一层掩模进行一次从在掩模到无掩模的连续腐蚀工序,可在(100)硅片上制作各种以〈311〉晶面为侧面
期刊
硅
微机械结构
掩膜-无掩膜
腐蚀工艺
微电子
Etching
Laminates
Micromachining
Microstructure
学在深处筑牢思想基础 做在实处彰显新作为
学习十九大精神,把着力点聚焦到习近平新时代中国特色社会主义思想是党必须长期坚持的指导思想上,聚焦到作出中国特色社会主义进入新时代、我国社会主要矛盾已经转化为人民日
期刊
中国特色社会主义思想
社会主要矛盾
生活需要
决策部署
习近平
聚焦
政治论
不平衡
GaAs中Si扩散机制的研究
本文报道采用选择性掺杂的多晶硅热退火掩膜作扩散源进行的GaAs中Si扩散机制的研究结果。
期刊
砷化镓
硅
扩散机制
掺杂
Annealing
Diffusion in solids
Doping (additives)
Mechanical proper
PECVD Si3N4钝化膜对GaAs MESFET直流特性的影响
用PECVD氮化硅薄膜对GaAs MESFET进行钝化,本文讨论了钝化对器件特性的影响,提出了一种改善GaAs器件表面的方法,结果表明利用该方法和PECVD氮化硅钝化膜改善了器件的栅漏击穿电压。
期刊
砷化镓
MESFET
氮化硅
薄膜
与本文相关的学术论文