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期刊论文
采用氮保护气氛生长的功率晶体管用硅单晶的研究
采用氮保护气氛生长的功率晶体管用硅单晶的研究
来源 :浙江大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:DAVIDIBM
【摘 要】
:
本文论述在纯氮气氛中生长硅单晶技术,根据器件工艺要求,与器件厂相互配合,取得了功率晶体管成品率的大幅度提高,肯定了氮保护气氛下生长的硅单晶的优越质量。
【作 者】
:
李立本
张锦心
【机 构】
:
浙江大学材料科学与工程学系,浙江大学材料科学与工程学系
【出 处】
:
浙江大学学报:自然科学版
【发表日期】
:
1990年3期
【关键词】
:
功率晶体管
氮
硅单晶
生长
Nitrogen
Transistor
Silicon crystal
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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本文论述在纯氮气氛中生长硅单晶技术,根据器件工艺要求,与器件厂相互配合,取得了功率晶体管成品率的大幅度提高,肯定了氮保护气氛下生长的硅单晶的优越质量。
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