【摘 要】
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采用非平衡磁控溅射法在血管支架上制备Ti-O薄膜,重点研究了支架表面薄膜厚度、内外表面薄膜差异及两种变形方式下薄膜的力学性能。支架表面积用精密MES电子天平称得质量计算
【机 构】
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西南交通大学材料科学与工程学院材料先进技术教育部重点实验室
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采用非平衡磁控溅射法在血管支架上制备Ti-O薄膜,重点研究了支架表面薄膜厚度、内外表面薄膜差异及两种变形方式下薄膜的力学性能。支架表面积用精密MES电子天平称得质量计算得到,薄膜厚度通过薄膜质量与支架表面积的关系求得;用X-射线电子能谱（EDX）分析了支架内外表面薄膜成份及含量;对支架压缩、撑开并选取变形量大、应力集中单元筋进行研究,用扫描电子显微镜（SEM）观察薄膜是否有破坏。结果表明,在该工艺下支架表面薄膜平均厚度为9.98nm,支架内外表面薄颜色泽均匀,薄膜附着性良好,在支架压缩和撑开过程中,应力大
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