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瞄准未来-太赫兹晶体管
瞄准未来-太赫兹晶体管
来源 :集成电路通讯 | 被引量 : 0次 | 上传用户:beidoubiao
【摘 要】
:
基于氮化铟高电子迁移率场效应晶体管实现高速逻辑、混合信号的集成电路显然还有很长的路要走,但研究已经开展起来。目前也取得了一些成果,比如对概念的物理分析。实际操作中也
【出 处】
:
集成电路通讯
【发表日期】
:
2015年3期
【关键词】
:
太赫兹晶体管
瞄准
场效应晶体管
高电子迁移率
选择性刻蚀
半导体结构
金属氧化物
氮化铟
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基于氮化铟高电子迁移率场效应晶体管实现高速逻辑、混合信号的集成电路显然还有很长的路要走,但研究已经开展起来。目前也取得了一些成果,比如对概念的物理分析。实际操作中也取得一些突破,如在氮化铟上对氮化镓进行高选择性刻蚀;在氮化镓/氮化铟上对金属氧化物半导体结构制备工艺;
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