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0.1μm线宽主流光刻设备—193nm(ArF)准分子激光光刻
0.1μm线宽主流光刻设备—193nm(ArF)准分子激光光刻
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yh603469940
【摘 要】
:
阐述了可实现0.1 μm线宽器件加工的几种候选光刻技术,对193 nm(ArF)准分子激光光刻技术作了较为详细的论述,指出其在0.1 μm技术段的重要作用,并提出了研制193 nm(ArF)光刻
【作 者】
:
陈兴俊
胡松
姚汉民
刘业异
【机 构】
:
中国科学院光电技术研究所
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2002年1期
【关键词】
:
光学光刻
光刻设备
193nm光刻
Optical lithography
Lithographic equipment
193 nm lithograph
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阐述了可实现0.1 μm线宽器件加工的几种候选光刻技术,对193 nm(ArF)准分子激光光刻技术作了较为详细的论述,指出其在0.1 μm技术段的重要作用,并提出了研制193 nm(ArF)光刻设备的一些设想.
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