0.1μm线宽主流光刻设备—193nm(ArF)准分子激光光刻

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阐述了可实现0.1 μm线宽器件加工的几种候选光刻技术,对193 nm(ArF)准分子激光光刻技术作了较为详细的论述,指出其在0.1 μm技术段的重要作用,并提出了研制193 nm(ArF)光刻设备的一些设想.
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