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采用雾化干燥结合氢还原工艺制备W-20％Cu(质量分数)纳米复合粉,分别用XRD,SEM,TEM等手段表征了制备过程中各步骤的产物及最终复合粉.结果表明该复合粉的粒子平均尺寸为240nm,粒子中弥散均匀分布的钨晶粒平均尺寸约为16nm.
W-20%Cu纳米复合粉的制备
【摘 要】
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采用雾化干燥结合氢还原工艺制备W-20％Cu(质量分数)纳米复合粉,分别用XRD,SEM,TEM等手段表征了制备过程中各步骤的产物及最终复合粉.结果表明该复合粉的粒子平均尺寸为240nm,
【机 构】
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中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室
【出 处】
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金属学报
【发表日期】
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2004年06期
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