【摘 要】
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随着精密机床、仪器、光学装置和集成电路等迅速向高精度化发展,相应地对其制造中的精密定位技术提出了越来越高的要求。例如,在超大规模集成电路制造装置中,要求0.1μm以上
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随着精密机床、仪器、光学装置和集成电路等迅速向高精度化发展,相应地对其制造中的精密定位技术提出了越来越高的要求。例如,在超大规模集成电路制造装置中,要求0.1μm以上的定位精度,它的定位水平,对整个装置的性能有极大的影响。目前已经实现了0.025μm的精密定位水平。
With the rapid development of precision machine tools, instruments, optical devices and integrated circuits and the like, higher and higher precision requirements for precision positioning technology are accordingly put forward. For example, in a very large-scale integrated circuit manufacturing device, a positioning accuracy of 0.1 μm or more is required, and its positioning level greatly affects the performance of the entire device. So far a precision positioning level of 0.025 μm has been achieved.
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