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应用原子层外延与分子层外延的理论研究了Turbo-Disk MOCVD外延生长过程，发现生长主要发生在衬底表面的台阶处，当通过控制生长参数达到优质外延时，实际上是一种亚原子外延过程．优化调整反应参数实现了优质外延。
应用原子层外延技术分析Turbo-Disk MOCVD外延生长模式
【摘 要】
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应用原子层外延与分子层外延的理论研究了Turbo-Disk MOCVD外延生长过程，发现生长主要发生在衬底表面的台阶处，当通过控制生长参数达到优质外延时，实际上是一种亚原子外延过程．优
【机 构】
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华南师范大学信息光电子学院
【出 处】
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液晶与显示
【发表日期】
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2004年2期
【基金项目】
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国家科技攻关计划资助项目 (No.0 00 68) ,国家“973”资助项目 ( 0 0 1CB3 0 93 0 2 ) ,广东省重大科技专项资助项目 (No .2 0 0 3A10 3 0 40 5 )
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